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  • EC400蒸發(fā)鍍膜設備

    1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
  • EC400蒸發(fā)鍍膜機

    1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。 2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。 3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:783
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
  • EC400熱蒸發(fā)鍍膜設備

    1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:874
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
  • MS450磁控濺射鍍膜設備

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:875
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    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
  • MS450多功能鍍膜設備

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:1158
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    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
  • MS450鈣鈦礦鍍膜設備

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:751
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    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-21
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